荷蘭正式推出半導體設備管制　艾司摩爾9月起更難出口給中國

荷蘭政府今（6/30）正式宣布先進半導體製造設備出口限制，9月1日起生效。荷蘭大廠艾司摩爾（ASML）首當其衝，未來若要將先進曝光機輸往中國，必須先申請許可。

《彭博新聞》報導，荷蘭今天在官方公報上公布了新的出口法規。如先前消息人士所透露，這些規定裡沒有具體提及中國或艾司摩爾，但將會讓艾司摩爾的深紫外光曝光機（DUV）更難銷售給中國，若要出口，必須事先申請許可證。

荷蘭貿易部長施萊納馬赫（Liesje Schreinemacher）在聲明裡表示，「採取這一步是為了國安，現在相關公司知道自己的處境了，這是件好事，如此一來它們就可以及時因應」。

艾司摩爾是全球半導體供應鏈裡最重要的一環，因為它幾乎壟斷了曝光機的生產。據先前報導，荷蘭這項措施，鎖定的是艾司摩爾3款浸潤式DUV，型號為：TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i。

浸潤式DUV是艾司摩爾第二先進的設備，最先進的極紫外光曝光機（EUV）以於今年3月禁止對中國出口。

艾司摩爾先前表示，這些限制不會對公司今年、或更長期的財務狀況造成重大影響。

美國政府去年10月開始大力打擊中國半導體發展，限制美企出口設備和技術，並推動其他國家跟進。荷蘭與日本今年初原則上同意加入，日本針對23項設備的限制令將於7月下旬生效；路透社29日還報導，美國也可能在7月下旬再推出一波限制，使艾司摩爾難以出口一些舊型曝光機給6家中國半導體廠，包含中國最大半導體商中芯國際的工廠。

艾司摩爾的設備裡含有美國零件。美國官員去年已揚言，如果盟友不配合美國的出口限制，可能會直接禁止外國企業向中國銷售有美國技術或零件的設備，即使那些技術或零件只佔了很少的部分。