中國首台EUV原型機華為扮要角　聘多名ASML前中國裔工程師全用假名

路透社報導，中國為達成半導體自給自足目標，積極打造生產先進晶片必需的「極紫外光微影機」（EUV），今年初已建成首台原型機。報導稱，中國重金召募多名曾任職荷蘭艾司摩爾（ASML）的中國裔工程師，透過二手市場取得舊款設備及零組件，還找來逾百名年輕的大學畢業生進行拆解與重組。

報導指出，這項計畫雖由中國政府主導，但由中國華為公司扮演關鍵角色，統籌協調中國多家企業與國家研究機構，在深圳一處秘密廠區進行。

知情人士指出，中方重金召募多名在中國出生的ASML前工程師，發給他們印有假名的身分證，要求在廠區內均以假名工作，隱匿真實身分。高層明確指示該計畫屬國家安全機密，不得讓廠區以外的人知道他們在做什麼，甚至不能得知他們的存在。

據報導，中方提供的簽約金額達300萬至500萬元人民幣（約新台幣1345萬至2240萬元），並提供購屋補助。中國也讓部分已取得外國籍的工程師恢復中國籍，並保有雙重國籍。中國法律規定禁止雙重國籍。

知情人士指出，中國國家研究機構也發揮關鍵作用，包括中國科學院長春光學精密機械與物理研究所。該所取得重大突破，將極紫外光整合進EUV原型機的光學系統，讓原型機在今年初得以運作，雖然其光學系統仍有待大幅精進。

據報導，長春光機所今年3月在官網招聘微影博士研究人員，薪資「不設上限」，研究經費最高400萬元人民幣（近1800萬元台幣），另加100萬元人民幣（約450萬元台幣）個人補助。

報導引述消息人士指，國際銀行經常拍賣舊款半導體設備。根據路透查閱阿里巴巴旗下拍賣平台「阿里資產」，直到今年10月都還有舊款ASML微影設備在平台上出售。

據報導，中國的原型機也使用了來自日本尼康（Nikon）與佳能（Canon）受出口管制的零組件。

報導也提及，該計畫找來約百名大學畢業生，負責對EUV與深紫外光（DUV） 設備零件進行逆向工程。EUV與DUV同為美國對中出口管制的設備。

報導稱，這些年輕工作人員的桌面皆設有獨立攝影機，記錄他們拆解零件再重新組裝的過程，成功完成組裝者可獲得額外獎金。知情人士指出，這些工作是中國微影技術發展的關鍵程序。

報導也引述四名熟悉華為運作的人士指出，EUV計畫雖由中國政府主導，但華為幾乎參與供應鏈的每一個環節，其中一名知情人士說，華為執行長任正非會定期向中國高層簡報進度。

報導稱，華為派員進駐全國各地的相關辦公室、晶圓廠與研究中心，團隊成員往往必須住在廠區內，假日才能回家，負責高度敏感任務的團隊，手機使用也受限制。

此外，華為也將研發計畫中的各團隊彼此隔離，僅極少數人知道整體發展進度，以確保計畫機密性。

報導稱，ASML 最先進的 EUV 設備體積約如一輛校車，重約180公噸。但中國複製同樣體積不成，原型機較ASML的設備龐大數倍，才能達到必要功率。

知情人士表示，中國的原型機仍相當粗糙，主因是難以取得如德國蔡司（Carl Zeiss AG）生產的精密光學系統，但運作能力已足以進行測試。

曾任職ASML的半導體研究機構SemiAnalysis分析師科克（Jeff Koch）表示，「光源功率足夠而穩定，且不會產生過多污染」，中國就已取得「具實質意義的進展」。

他表示，中國的優勢在於「商用EUV已經存在」，他們不是從零開始研發，「這在技術上毫無疑問是可行的，問題只在於時間」。